真空镀膜si是什么材料（真空镀膜英文）

2023-03-18

本篇文章给大家谈谈真空镀膜si是什么材料，以及真空镀膜英文对应的知识点，希望对各位有所帮助。

真空镀膜AFS是什么材料

古德邦车标（goodbong）为你解答：

你说的AFS是错误的，应该是ABS材质吧，真空镀膜多用于亚克力（PMMA）和ABS或者PC等塑料材质。

ABS和PMMA材质真空镀膜：

塑料电镀产品和金属电镀件相比，具有轻质、易加工、表面光泽性和整平性好等优点，在汽车、摩托车、五金、日常家用品等方面有广泛的用途，而且应用领域会越来越广，对电镀质量的要求也会越来越高。电镀完毕后，每一件产品必须拿到灯光检验台进行打光检测，确保镀的颜色一致及镀膜无漏光、无污染、无麻点。外镀的质保期是3年，使用期限为3~5年；内镀的质保期是4年，使用期限为4~6年。参考资料：

真空喷镀金属需要与塑料表面底漆之间的良好配合，底漆的厚度通常为 10—20m，主要作用是防止塑料中水、有机溶剂、增塑剂等排出影响金属附着。要求涂层硬度高、底漆具有可以修饰塑料缺陷，能提供一个光滑、平整的平面以利于真空镀的性能，并与塑料底材和所镀金属附着牢固。通常选用双组分常温固化的聚氨酯和环氧涂料，低温烘烤的氨基涂料以及热塑性丙烯酸酯涂料。

什么叫真空镀膜

真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

一、镀膜的方法及分类

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

主要分为一下几类：

蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。

蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。

为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。

溅射镀膜：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。通常将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10-1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。

离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。

二、薄膜厚度的测量

随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度测量方法有很多，按照测量的方式分可以分为两类：直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器，通过接触（或光接触）直接感应出薄膜的厚度。

常见的直接法测量有：螺旋测微法、精密轮廓扫描法（台阶法）、扫描电子显微法（SEM）；

间接测量指根据一定对应的物理关系，将相关的物理量经过计算转化为薄膜的厚度，从而达到测量薄膜厚度的目的。

常见的间接法测量有：称量法、电容法、电阻法、等厚干涉法、变角干涉法、椭圆偏振法。按照测量的原理可分为三类：称量法、电学法、光学法。

常见的称量法有：天平法、石英法、原子数测定法；

常见的电学法有：电阻法、电容法、涡流法；

常见的光学方法有：等厚干涉法、变角干涉法、光吸收法、椭圆偏振法。

下面简单介绍三种：

1. 干涉显微镜法

干涉条纹间距0，条纹移动，台阶高为t=(/0 )*0.5，测出0 和，即可，其中为单色光波长，如用白光，取 530nm。

2. 称重法

如果薄膜面积A，密度和质量m可以被精确测定的话，膜厚t就可以计算出来：

d=m/A。

3 石英晶体振荡器法

广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的自动控制。

对于薄膜制造商而言，产品的厚度均匀性是最重要的指标之一，想要有效地控制材料厚度，厚度测试设备是必不可少的，但是具体要选择哪一类测厚设备还需根据软包材的种类、厂商对厚度均匀性的要求、以及设备的测试范围等因素而定。

三、真空镀膜机保养知识：

1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）

2. 关闭电源或程序打入维护状态

3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，方阻探头，光密度测量器）

4. 清洁中罩室（面板四周）

5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）

6. 检查重冷与电气柜设备

这次实习给了我们了解了镀膜技术的原理、技术，使我们了解了工厂的生产，感觉很新颖，收获很多。

真空镀膜和光学镀膜使用方法和常用材料分别有什么不同？

1、真空镀膜的方法材料:

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜.

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜.

(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程.

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点.

2、常见的光学镀膜材料：

(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点.

(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好.纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点.按使用要求分为紫外、红外及可见光用.

(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点.

真空镀膜所需的原料是什么？以及镀膜前必须进行的准备工作又是什么？

蒸镀，磁控溅射，化学沉积等。。。蒸镀分钨丝舟石墨舟等载体加热和电子枪加热，磁控分直流，中频，射频等（这里只介绍生产用的）化学气相那更多，关注较最多的是PECVD，其他的有MOCVD，LPLDcvd。。。等等都是通过温度和电磁来把气体变成固体附着在基体上。

你问的应该是蒸镀。所需原来就是那想要附着在你的工件上的材料。例如，你想在工件上镀上白亮的铝，那你的原料就是纯度高点的铝；你想在工件上镀上白亮的铬，那你的原料就是纯度高点的铬；。。。。镀膜钱请确保你的工件表面的处理是良好的干净的。。。

光学真空镀膜材料有哪些

一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%）

1. 氧化物 技术指标

一氧化硅，二氧化铪，二氧化锆，二氧化钛，一氧化钛，二氧化硅，三氧化二钛

? 五氧化三钛，五氧化二钽，五氧化二铌，三氧化二铝，三氧化二钪，三氧化二铟

? 二氧化硅，二钛酸镨，二氧化铈，氧化镁，三氧化钨，氧化钐，氧化钕，氧化铋

? 氧化镨，氧化锑，氧化钒，氧化镍，氧化锌，氧化铁，氧化铬，氧化铜

2. 氟化物 技术指标

? 氟化镁，氟化镧,氟化镱，氟化钇，氟化镝，氟化钕，氟化铒，氟化镝，氟化钾 氟化锶,氟化钐,氟化钕，氟化钠，氟化钡，氟化铈

3. 金属类 技术指标

4. 混合料 技术指标

? 氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料

? 氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化铝混合料

? 氧化镁氧化铝混合料，氧化铟氧化锡混合料，氧化锡氧化铟混合料

? 氟化铈氟化钙混合料

5. 其他化合物 技术指标

? 钛酸钡，钛酸镨，钛酸锶，钛酸镧，硫化锌，冰晶石，硒化锌，硫化镉

氮化硅，碳化硅，碳化硅，碳化铪，氮化钛，氮化铝，二硼化钛，二硼化锆

sic镀膜的用处

1、汽车镀膜具有抗氧化、防老化的作用，施工后在车漆表面形成坚硬的无机（二氧化硅玻璃晶体）镀膜层，与车漆紧密结合，提高漆面硬度和平滑度，将漆面与空气完全隔绝，并且无外力因素永不脱落。

2、能够大大的提高车漆表面清漆的光泽度，使车漆看上去更加鲜艳、光彩夺目。

3、耐腐蚀。坚硬的非有机（玻璃晶体）膜层自身不会氧化的同时也防止外界的酸雨、飞虫、鸟粪等对车漆的腐蚀致密的玻璃晶体膜具有超强抗腐蚀性，镀膜能有效防止酸雨等腐蚀性物质对车漆造成的损害，同时防止车漆的褪色。

4、耐高温。玻璃晶体本身具有耐高温的特质，能有效反射阳光将外部的热辐射进行有效反射，防止高温对车漆的伤害。

5、防划痕。坚硬的非有机（玻璃晶体）膜层可以将车体表面的硬度提高到 7H ，远高于车蜡或釉 2H-4H 的硬度，能更好的保护车漆不受沙砾的伤害。

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